地方独立行政法人大阪産業技術研究所 森之宮センター

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講習会・発表会

テクニカルセミナー

掲載日2015年6月3日

開 催 日 時:2015年8月3日(月) 15:00-17:00

開 催 場 所:大阪産業創造館5F 研修室AB

定   員:60名 満席になり次第、締め切ります

料   金:無料

詳細・申し込みはこちらから

講   師:藤原 裕 大阪市立工業研究所 電子材料研究部 研究フェロー

講 義 内 容:

◆現代のめっき技術
         ・装飾めっき: めっき技術の基礎
         ・防食めっき(亜鉛めっき): 犠牲防食の考え方、六価クロムフリーの動き
         ・工業用めっき: 硬質クロムめっきと無電解ニッケルめっき

◆新しい動き
         ・エレクトロニクス実装とプリント基板製造におけるめっき技術: 
        RoHS指令への対応、鉛フリーはんだめっき、高分子基板のメタライズ、多層基板の層間接続のための

        ビアフィルめっき
         ・MEMSと半導体集積回路におけるめっき技術
         ・めっき類似のウェットプロセスによる機能膜創製と次世代太陽電池 

●申込みは大阪産業創造館まで

◎主催:地方独立行政法人大阪市立工業研究所  公益財団法人大阪市都市型産業振興センター

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